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三星锁定1纳米工艺2029年量产目标悬念颇多!
发布于 2025-07-06 06:46 阅读()
近期,三星电子在半导体领域的最新动态引发了广泛关注。该公司推出了一个雄心勃勃的计划:研发1.0纳米晶圆代工工艺,目标是在与全球竞争对手的较量中取得优势。为此,三星电子的半导体研究所已组建了一个专项团队,由众多曾参与2纳米等先进制程研发的核心技术人员组成,专注于1.0纳米工艺的突破。
在此之前,三星原本规划的晶圆代工工艺路线图中,最先进的技术节点是计划于2027年量产的1.4纳米工艺。但如今他们的目光进一步投向更为尖端的1纳米工艺,这一举动标志着三星在全球半导体竞争中的向前跃进。然而,业界普遍认为,1纳米工艺研发的路程并不平坦,可能会出现不少挑战。这项技术需要借助高数值孔径极紫外(High-NAEUV)光刻设备等新型生产技术,K8凯发预计量产时间可能会推迟到2029年。
尽管三星在3纳米工艺上已有量产成果,并计划在今年推出2纳米工艺,但其在这些领域仍与竞争对手存在差距。特别是在2纳米工艺的良品率上,其他公司已经取得了显著进展,而三星则还有待追赶。对此,三星希望通过1纳米工艺实现技术上的反超,提高市场竞争力。
值得关注的是,三星会长李在镕在近期的高管会议上重申了技术创新的重要性,承诺公司将致力于以“前所未有的技术”引领未来的发展。这一声明无疑为三星在半导体领域的研发注入了新的动力。
此外,三星在2纳米SF2工艺方面也取得了初步成果,有报道称基于该工艺的Exynos2600芯片试产良品率已达30%,这一表现超出了最初的预期。随着半导体行业竞争的加剧,三星正通过持续加大研发投入与技术创新来争取在先进制程领域更多的突破。
未来,如果1.0纳米晶圆代工工艺的研发能够如期推进,三星有望在全球半导体市场中占据更重要的地位。然而,挑战与机遇并存,三星接下来的行动将对其在半导体产业的未来走向产生深远影响。返回搜狐,查看更多
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