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　　，近日，国际光学委员会（ICO）副主席、俄罗斯科学院通讯院士安德烈·诺莫夫介绍，列别捷夫物理研究所（FIAN）的专家完成了电子纳米光刻机的现代化改造。

　　该装置以20世纪80 - 90年代经互会（CMEA）成员国开发的ZBA电子纳米光刻机为基础。在苏联时期，曾有数百台该类装置运行，大量电子产品借此制造，但苏联解体后，相关技术也一度中断。此次改造不仅重新设计装置各单元，还融合现代技术。

　　新装置采用电子束光刻技术，通过电子束对光刻胶表面进行结构化，可生成技术标准达200纳米及以下的独特纳米结构。目前，俄罗斯科学家已借助该装置开始获取光谱仪元件、生产衍射光学元件和相位光栅组件，用于机器视觉和显微镜系统，还制造出对X射线光学发展至关重要的可变周期掠入射衍射光栅，获得高质量光谱仪衍射光栅，并实现150 x 150毫米大型板印刷。