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苏州润邦半导体申请光刻胶抗反射底涂层用偶联剂及制备方法与应用专利收率高国家知识产权局信息显示，苏州润邦半导体材料科技有限公司申请一项名为“一种光刻胶抗反射底涂...
2025-12-06 阅读（845） 标签：半导体光刻技术 -
美国投行唱衰：落后ASML 20年中国光刻机止步65nm？哈工大光速打脸日前，美国知名投行高盛发布的研究报告指出，现阶段中国自主研发的光刻设备仍停留在65nm工艺水平， 当前，全球芯片制造已迈入5nm以下节点，...
2025-12-06 阅读（589） 标签：半导体光刻技术 -
苏州工业园区科技研学全攻略：解锁未来产业带孩子走进“中国硅谷”的心脏您好！看到您想为科技研学寻找苏州工业园区的企业参观资源，这真是个非常有眼光的想法。作为深...
2025-12-06 阅读（861） 标签：纳米制造技术
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