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芯片逼近5纳米却卡壳光刻:中国芯的困境与出路何在?
中国芯片制造工艺已稳步逼近5纳米门槛,N+3工艺的落地看似实现技术升级,实则仍基于7纳米...
2025-12-19 阅读(898) 标签:纳米制造技术 -
中国EUV光刻自主研发获重大进展 打破技术封锁
中国EUV光刻自主研发获重大进展 打破技术封锁!在深圳实验室,一台极紫外光刻原型机成功产生光源,这一进展与阿斯麦首席执行官几个月前的预测形成鲜明对比...
2025-12-19 阅读(995) 标签:半导体光刻技术
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