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光刻胶:半导体技术壁垒最高的材料之一
光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺,耗时占IC制造50%左右,成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材,光刻胶的...
2025-08-01 阅读(904) 标签:半导体光刻技术 -
琮光半导体取得一种滤光装置和激光光刻设备专利解决现有滤光装置需要较大安装空间的技术问题
金融界2025年7月30日消息,国家知识产权局信息显示,上海琮光半导体科技有限公司取得一...
2025-07-31 阅读(543) 标签:半导体光刻技术
新闻资讯
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光刻技术在半导体工艺中的地位和作用是什么? 08-15
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先进封装关键技术系列之光刻工艺 08-15