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“有图纸也造不出!”日本严防死守的技术被中国小厂拿下狠打脸
据披露,由上海主导研发的国产28纳米光刻机取得关键进展,预计于今年年底批量生产。值此我国光刻技术即将实现突破之际,某日方厂商扬言将停止向我国供应光刻...
2025-10-31 阅读(723) 标签:半导体光刻技术 -
我国光刻胶领域研究取得新突破
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原...
2025-10-31 阅读(927) 标签:半导体光刻技术 -
沐曦过会、国产光刻胶迎新突破!半导体设备ETF涨近4%
k8凯发集团k8凯发集团 10月27日,在多重利好的催化下,通信、半导体等硬科技方向领涨!...
2025-10-30 阅读(617) 标签:半导体光刻技术 -
挑战ASML!这家美企研发X射线光刻机要把芯片制造成本降低90%!
当地时间10月28日,美国新创光刻设备厂商Substrate宣布,他们已开发出一款全新的光刻机,有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每...
2025-10-30 阅读(532) 标签:半导体光刻技术 -
没有大学文凭没有半导体经验他的公司要挑战ASML和台积电
10 月 28 日,一家名为 Substrate 的神秘硅谷初创公司突然浮出水面,宣称已...
2025-10-30 阅读(529) 标签:半导体光刻技术
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原型机 - OFweek电子工程网 02-28

