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Intel全球首装二代High-NA EUV光刻系统为14A节点制程发展助力前行近日，半导体行业迎来重要进展，英特尔宣布成功部署阿斯麦（ASML）最新研发的TWINSC...
2025-12-22 阅读（787） 标签：半导体光刻技术 -
ASML麻烦大了！美荷联手垄断光刻机技术不料中企亮出王牌据相关报道，国内颇具知名度的光刻企业——上海微电子所拆分出的“微装”厂商，始终专注于泛半导体领域高端设备的研发。截至目前，该厂商已成功交付500台相...
2025-12-22 阅读（1033） 标签：半导体光刻技术 -
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终结欧美卡脖子的时代！外媒报道：中国已生产出光刻机！全球半导体产业格局将迎来巨变？2025年12月17日，路透社援引权威信源报道：中国已成功量产自主研发的光刻机，核心技术...
2025-12-21 阅读（1050） 标签：半导体光刻技术 -
三维光刻技术分类及作用是当前半导体、平板显示、MEMS、光电子等行业的关键工艺环节。光刻技术是指在短波长光照作用下，以光刻胶（光致抗蚀剂、photoresist）为介质，...
2025-12-20 阅读（828） 标签：半导体光刻技术
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彤程新材获得发明专利授权：“一种光刻胶及其应用” TOP1 -
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2026半导体设备行业发展现状分析与未来展望 07-20 -
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