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中国首台国产光刻设备正式交付成本砍至DUV的十分之一打破西方光学光刻垄断ASML和日本的佳能要坐不住了!
2026年6月上旬,半导体行业的平静被一则低调的国内交付消息彻底打破。没有盛大的官宣仪式...
2026-06-12 阅读(583) 标签:半导体光刻技术 -
官宣!台积电引入英伟达CUDA-X技术光刻成本最高暴降50%
英伟达正式宣布,台积电已全面采用其加速计算与人工智能技术,覆盖从芯片设计到量产的全生命周...
2026-06-08 阅读(819) 标签:半导体光刻技术
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颠覆性技术有望改变未来五年尖端芯片制造方式 07-14
