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伟疆创新申请半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备专利可对光学系统的镜头进行擦拭
国家知识产权局信息显示,深圳市伟疆创新科技有限公司申请一项名为“一种半导体芯片光刻对准精...
2026-03-28 阅读(833) 标签:半导体光刻技术 -
打破海外垄断两大半导体关键项目联合投产
3月20日,鼎龙股份年产300吨高端晶圆光刻胶、湖北芯陶静电卡盘项目联合投产仪式在武汉经开区举行。 当天上午,随着启动按钮按下,两...
2026-03-28 阅读(790) 标签:半导体光刻技术 -
40nm-28nm 半导体掩模版生产线建设项目可行性研究报告
电子束光刻机、干法蚀刻机、无酸清洗设备、高端量检测设备、模拟曝光设备和高端修补设备 ...
2026-03-27 阅读(711) 标签:半导体光刻技术 -
01nm光刻!又有一家企业想要颠覆ASML的EUV光刻机
因为任何大规模的7nm以下的芯片制造,都离不开EUV光刻机,只有它能够实现低成本的,大规...
2026-03-27 阅读(846) 标签:半导体光刻技术 -
就差光刻技术了!日媒:中国会成日荷后第三个造光刻机的国家
日本媒体日经亚洲2025年7月16日发文讨论中国半导体设备自主情况。文章标题直问中国能不...
2026-03-26 阅读(1021) 标签:半导体光刻技术
新闻资讯
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颠覆性技术有望改变未来五年尖端芯片制造方式 07-14
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行业导读_东方财富网 07-10

