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泓光半导体申请顶部抗反射涂层组合物专利有效地抑制浸没式光刻中的水浸润缺陷
国家知识产权局信息显示,福建泓光半导体材料有限公司申请一项名为“一种顶部抗反射涂层组合物...
2026-04-07 阅读(745) 标签:半导体光刻技术 -
别只盯着ASML!半导体设备下一个国产替代风口已出现
凯发k8天生赢家 半导体设备是产业最主要投资对象,通常占总资本支出的75%-80%。随着制...
2026-04-06 阅读(777) 标签:半导体光刻技术
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