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长鑫芯瑞申请半导体结构及其制造方法专利每一数据存储元件与一个存储单元晶体管的多个纳米片电连接!

发布于 2026-01-31 16:05 阅读(

  

长鑫芯瑞申请半导体结构及其制造方法专利每一数据存储元件与一个存储单元晶体管的多个纳米片电连接

  国家知识产权局信息显示,长鑫芯瑞存储技术(北京)有限公司申请一项名为“半导体结构及其制造方法”的专利,公开号CN121419232A,申请日期为2025年12月。

  专利摘要显示,本公开实施例提供了一种半导体结构及其制造方法,其中,半导体结构包括:衬底,以及位于衬底上的多个存储单元晶体管,每一存储单元晶体管包括:纳米片组,纳米片组包括多个间隔排布且沿第一方向延伸的纳米片,纳米片包括沟道区;栅极层,覆盖纳米片组的多个沟道区;第一方向与衬底的表面平行;多个数据存储元件,沿第一方向位于纳米片组的一侧,每一数据存储元件与一个存储单元晶体管的多个纳米片电连接。

  天眼查资料显示,长鑫芯瑞存储技术(北京)有限公司,成立于2024年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。通过天眼查大数据分析,长鑫芯瑞存储技术(北京)有限公司专利信息25条,此外企业还拥有行政许可1个。

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