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芯片重大突破:国产EUV光刻机技术挑战成功2026年量产指日可待!

发布于 2025-09-05 16:01 阅读(

  

芯片重大突破:国产EUV光刻机技术挑战成功2026年量产指日可待

  最近网上有人说咱们自己研发的EUV光刻机今年第三季度就能试生产,2026年能大规模量产。这事是不是真的?仔细查了下,确实有实打实的进展。

  哈工大先宣布了好消息。他们做了个叫放电等离子体极紫外光刻光源的东西,拿了省级科技成果转化一等奖。这玩意儿就是光刻机最核心的光源部分,以前全靠外国,现在终于自己造出来了。

  中科院也跟上来了。他们搞了个LPP-EUV光源,技术指标达到国际先进水平。光源这块儿算是彻底解决了,不用再靠进口了。

  不过光刻机不是只有光源就能用的设备。还有三个难点没完全搞定:一是镜头精度调试,二是真空环境控制,三是德国蔡司垄断的反射镜制造。这三个问题现在还在攻关阶段。

  有个荷兰ASML公司的高管说,听说咱们有进展,但想做出成熟的EUV光刻机还得等好几年。这话听着扎心,但也提醒了我们技术突破不能急。

  但试产计划确实有底气。现在光源效率和晶圆产能都达到了试产标准。接下来得解决镜头精度提升、设备集成稳定性,还有产品合格率这些具体问题。

  芯片制造过去一直被国外卡脖子。如果EUV真能量产,咱们就掌握了核心技术,半导体产业受制于人的局面就能改变。这些年国内团队确实在拼命赶,从零件到整机都在一点点突破。

  现在已经有工厂开始准备试生产场地了。虽然距离量产还有差距,但至少迈出了第一步。往后的事只能一步步来,先把眼前的技术难题一个一个解决。

  相关企业已经开始和国内光学厂商合作,制定新的行业标准。德国那边的专利壁垒还在,不过咱们有了自己的技术路线。

  听说合肥有个新厂房正在建,专门用来测试国产光刻机。设备调试时如果发现问题,马上就能现场修改。这种快速迭代的模式应该能加速进度。

  荷兰那边一直监控我们的动向。他们最近招标文件里加了条款,可能要准备接受国产设备参与竞争。这说明我们已经在影响全球市场格局。

  总之,消息基本靠谱。接下来两年最关键的还是提高设备稳定性和合格率。等这些问题都解决好了,2026年量产应该能实现。

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  我是小全,一名专注于AI时代前沿科技的博主。从生成式AI到多模态模型,从自动驾驶到AI驱动的科学发现,我致力于探索人工智能如何改变我们的生活、工作