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　　都知道荷兰的asml公司出品的光刻机在全球属于抢手货，高精度的EUV光刻机更是直接垄断了高端市场。

　　他名叫林本坚，在越南出生的台湾人。从台湾大学电机工程学系毕业之后，去到了美国俄亥俄州立大学电机工程学系进行深造，并且获得了博士学位。

　　林本坚早期在IBM任职，2000年回到台湾加入了台积电，直到2015年退休。

　　他在加入台积电之后，任台积电资深处长、杰出科技院士和副总经理。林本坚主要的研发方向，就是半导体制造当中的浸润式微影技术，也就是俗称的光刻技术。

　　林本坚在光刻技术上面有着很强的技术引领性，他刚入职IBM的时候，只用了5年的时间，他就做出当时光刻领域最短波长的光线，他自己把它命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。

　　可以这么说，各大厂商的DUV光刻机，都有林本坚的技术在里面。后来开发的EUV光刻机，就是在此基础上进行的技术革新。

　　在研发出DUV技术11年之后，林本坚意识到，原来的微影技术已经走到了尽头，很难再发展。当时光刻技术所能触及的最短波长，是157nm。

　　随后，林本坚开始通过反向思维进行推算，能不能退回到193nm，然后在镜头和晶圆之间加入其他介质，实现更短的波长？

　　然后他将水作为介质，加入了进去。根据林本坚的推算，193nm的波长经过水的折射之后，是可以达到134nm的。

　　他将这种技术，称之为浸润式微影技术，也就是现在EUV光刻机所用到的技术。

　　台积电的老大张忠谋可是个狠人物，他深知林本坚这个人的实力强，在林本坚加入台积电之后，立马给他加官进爵，让他组建研发团队进行技术研发。

　　荷兰的asml也早于佳能和尼康，看出了浸润式微影技术的发展前景，主动要求跟台积电进行合作。

　　后来的情况大家应该都知道了，asml抢在所有同行前面生产出来了EUV光刻机，并且凭借着先进的设备在光刻机业务上面成为了老大。

　　而台积电，也凭借着林本坚的技术和asml公司的设备，在晶圆代工行业上面独占大量市场份额。

　　曾经网易新闻对林本坚发起过一次采访，问到了林本坚对于中国大陆芯片发展的看法。

　　我觉得大陆这边是有很多很好的先天条件。第一就是有市场、有机会，只要你做得好，有机会做很多芯片，有量。然后是有人，有很多人才，有好多学校，这些都有了。但是你怎么样让他们觉得半导体很重要，因为现在年轻人都要做很多别的事情，这些都是要去努力的。

　　我想，这也是为什么林本坚不选择来到大陆发展的原因。相对于半导体行业来说，美方是最早注重发展这个领域的国家，其次就是我国的台湾，再后来延伸到了我国的大陆。

　　从行业的注重性和用人待遇上面来看，台湾要比大陆更有优势，况且台积电的人员有很多都是从德州仪器过来的精英，由这些精英组成的团队，在发展速度与技术底蕴上面，是其他企业团队无法相比的。

　　虽然我国很早之前就出台了909项目来扶持半导体行业，但是后来的汉芯、弘芯项目都是打着发展半导体的名头，来骗取国家的扶持资金，赚取不正当的快钱。

　　我们大陆的半导体发展问题依然严峻，不只是受到美国的制裁，更多的是留不住人才。

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