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光刻胶最新资讯-快科技--科技改变未来!
发布于 2025-09-13 08:03 阅读()
快科技9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,K8凯发科技同样重要的还有EUV光刻胶,K8凯发科技现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路
快科技7月24日消息,据清华大学官网介绍,日前,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展,开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶,为先进半导体制造中的关键材料提供
1月8日消息,近日,新加坡毕盛资产管理(APS Asset Management, “APS”) 的创始人兼联席首席投资官王国辉(Wong Kok Hoi)在接受彭博电视台的专门采访时表示,中芯国际可以利用其优势在
快科技10月25日消息,据华中科技大学官微消息,近日,该校武汉光电国家研究中心团队,在国内率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。 据介绍,其研发的T150
快科技10月15日消息,据“中国光谷”公众号,日前,武汉太紫微光电科技有限公司(以下简称“太紫微公司”)推出的T150 A光刻胶产品,通过半导体工艺量产验证。 T150 A光刻
快科技4月2日消息,据湖北九峰山实验室官微消息,九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队,支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。 据
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