K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　

　　的光。一般stepper或scanner的曝光源，都是通过滤光片将其他不需要的

　　光过滤掉，只留下365nm或436nm的光。接触式曝光机一般用宽谱曝光，

　　光刻机的发展主要从二十世纪70年代到现在，从早期的线微米以上到现在的亚微米尺寸，从汞灯光源到KrF等，按曝光方式大致将光刻机分为五代。

　　焦点周围的一个范围，在这个范围内图像连续的保持清晰，这个范围被称为焦深或DOF。

　　温度：温度对掩模版台、光学元件、承片台和对准系统产生影响。所以高温照明系统和电源通常放在远离设备主体的地方。

　　湿度：湿度能影响空气密度，不利于光通过；从而对干涉计定位、透镜数值孔径和聚焦产生不利影响。

　　振动：振动的发生将给定位、K8凯发官网平台入口对准、聚焦和曝光带来问题。K8凯发官网平台入口可能产生定位错误、对准错误、离焦和不均匀曝光。

　　大气压力：大气压力的变化可能影响投影光学系统中空气的折射率。将导致不均匀线宽控制和极差的套准精度。

　　热板加热，wafer直接和热板全面接触，热传导很快，热量从下往上传导。溶剂挥发快。优点：均匀性好！

　　烘箱加热，热量通过空气传导给wafer，需要时间长，且会存在均匀性问题。

　　微波加热，热量从上往下，光刻胶表面会先变硬，如胶厚度较厚，底下的溶剂不好挥发。

　　Soft bake 温度过高，会导致曝光能量增大和分辨率降低。因为温度太高，