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　　第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）在深圳圆满落幕，标志着中国光刻技术发展的重要里程碑。九年来，IWAPS始终致力于推动国内光刻技术的自主创新，为中国集成电路产业的跨越式发展注入了强大动力。本次研讨会汇聚了全球顶尖学者、头部企业及产业链代表，共同探讨了等前沿技术，加速了国产设备与材料的验证迭代，并为行业培育了关键技术人才。

　　IWAPS自2017年创办以来，已成为国内规模最大、国际化程度最高的光刻技术峰会。它为国内外半导体工业界、学术界的专家提供了一个重要的技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享研究成果，探讨图形化解决方案，并研讨即将面临的技术挑战。会议报告内容广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战。荷兰ASML、德国Siemens、ZEISS、日本Fujifilm等国际头部企业连续几届参会并提供支持。通过IWAPS平台，全芯智造、华芯程、东方晶源等国内新兴半导体企业得到了广泛的关注，为它们的快速成长提供了重要助力。IWAPS大会也为集成电路产业主管部门、顶尖专家、龙头企业和行业组织搭建了交流合作、协同创新的高端平台，助力集成电路产业高质量发展。会议同时注重与会议举办地产业部门深度协同，构建区域性创新枢纽，精准激活区域产业生态。

　　韦亚一教授作为IWAPS大会的核心组织者，是中国科学院大学特聘教授，中国科学院微电子研究所研究员，博士生导师。他凭借丰富的产业化经验，早在2010年就深刻意识到光刻技术对于半导体制造业的重要性。面对西方国家的技术封锁和EUV光刻机等先进芯片制造设备的禁运，韦亚一教授带领团队克服重重困难，坚持举办IWAPS会议，为中国半导体产业的发展燃起了一缕希望之火。尤其是自2024年起，IWAPS与SPIE签订合作办会的协议，会议成功列入SPIE会议名录，标志着IWAPS会议的发展登上了一个新台阶。如今，IWAPS会议已经得到了国内外光刻领域专家的广泛认可，为国内先进光刻技术的发展树立起了标杆。

　　本次IWAPS2025会议上，EUV光刻和计算光刻成为了焦点。随着芯片制程进入纳米级，EUV光刻技术的重要性日益凸显。同时，计算光刻与人工智能的深度融合，也在不断推动技术边界的扩展。全曲线逆向光刻技术（Curvilinear ILT）经过二十年发展已实现量产突破，通过多束电子束掩模写入器实现了无时间惩罚的曲线掩模制造，这项技术被证实具有半导体领域最高的投资回报率。在DICO（设计-基础设施协同优化）方面，通过光源掩模优化可在数周内完成校正，相比传统方法节省数月时间。这些技术进步共同描绘了后摩尔时代集成电路发展崭新蓝图。

　　IWAPS九年来的发展，见证了中国光刻技术从追赶到并跑，乃至部分领域实现超越的历程。随着EUV技术的不断成熟和计算光刻的持续发展，中国在半导体领域的自主创新能力将得到进一步提升。这场技术盛宴不仅是学术交流，更是产业合作的桥梁，为中国芯片产业的崛起提供了坚实的技术支撑。

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　　随着高数值孔径EUV的逐步应用，以及计算光刻与人工智能的深度融合，中国光刻技术将迎来怎样的发展机遇？欢迎在评论区分享你的看法。

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