矽电股份：公司的光刻机专利技术已应用于公司曝光机生产该产品主要应用于二极管、可控硅、MOSFET等功率半导体关键领域的晶圆曝光-K8凯发（辽宁）股份有限公司

发布于 2025-11-13 20:15 阅读（）

矽电股份：公司的光刻机专利技术已应用于公司曝光机生产该产品主要应用于二极管、可控硅、MOSFET等功率半导体关键领域的晶圆曝光

　　同花顺300033）金融研究中心11月13日讯，有投资者向矽电股份301629）提问，贵公司的光刻机专利主要用于半导体制造中的自动化校准和上下料装置。而这些专利技术应用于光刻机等半导体设备中，请问主要是提升生产效率和精度吗？

　　公司回答表示，凯发k8尊敬的投资者您好，相关专利技术已应用于公司曝光机生产，该产品主要应用于二极管、可控硅、MOSFET等功率半导体关键领域的晶圆曝光。感谢您的关注与支持。凯发k8

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