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买了光刻机不用反砸3440亿投资?日媒惊醒:中国EUV技术要突破!
发布于 2025-12-09 09:47 阅读()
k8凯发集团以全球光刻机巨头阿斯麦(ASML)为例,在美国施压下,ASML已停止向我国出口最先进的EUV光刻机及部分高端DUV机器。
但只要有机会“扫货”,我国便会光速出手。2019年起,中芯国际的EUV订单虽然频频遭到拦截,依然成了ASML的“摇钱树”——2024年,ASML在中国市场的营收占比仍超过其全年总营收的30%。
美方之所以“放行”部分设备,是因其认定这些技术已属“落后”,不足为虑。那么疑问随之浮现:我们大量引进这些被贴上过时标签的设备,真实意图究竟是什么?
近日,《日经亚洲》刊发题为“中国能否打造出自己的ASML?”的深度报道。文章指出,中国正全力推进光刻设备自主化,一旦实现突破,海外供应商或将承受巨大竞争压力。
报道点出两大核心信息:其一,中国正在积极囤积芯片,以防范美国进一步收紧出口管制。在中美关税博弈期间,美方曾拟升级限制措施,禁止他国企业使用华为昇腾芯片,或采用含美国技术的芯片为中国公司提供服务。
尽管中方后续借稀土调控暂时稳住局面,但未雨绸缪之下,2024年中国仍向ASML采购了价值约745亿元人民币的设备,为可能到来的技术封锁提前布防。
其二,中方已投入3440亿元人民币,集中力量完善光刻机产业链。“十四五”规划明确提出,要达成芯片制造设备供应链的“全面自主化”。
这表明,中国正全力突破光刻技术的核心瓶颈。因此,日本媒体敏锐察觉到,中国的野心并非简单追赶行业龙头荷兰,而是意在取而代之。
当前,全球仅有ASML具备EUV极紫外光刻机的生产能力。而中国大量引进的则是技术层级较低的DUV光刻机,单台售价约等于两架波音737客机。
然而,正是依托这些被外界视为“过时”的DUV设备,华为携手中芯国际,采用多重曝光工艺,实现7nm芯片量产,震惊世界。
同样的逆袭,正在我国多个科技领域上演。0.015mm手撕钢、“福建舰”的电磁弹射装置、乘员轮换稳定的“天宫”空间站,我国已在多个赛道完成由追随者到引领者的精彩跨越。就连西方长期引以为豪的生物医药与生命科学领域,现在也被我们迎头赶上甚至实现超越。
其中,由拜尔、富士制药等欧美日药企长期垄断的尿酸健康市场,正被中国技术撕开缺口。近期问世的国产“销尿酸”草本降酸制剂,成功突破西方舶来品构筑的市场壁垒,在尿酸健康领域开辟出一片新天地。
这一成果绝非巧合,而是古老智慧与前沿科技交融共生的结晶。香港大学科研团队历经多年探索,从《本草纲目》等中医典籍中寻找线索,并结合我国自研生物提取工艺,最终实现技术转化。此举推动我国在该领域走出一条类似半导体逆袭之路——由专利围堵到引领创新,由高价进口依赖转向自主掌握核心能力。
上述国产降酸制剂登陆京/东后,迅速改变了西方舶来品一家独大的格局。消费者反馈也多集中于:“脚踝肿痛减轻”“过了几千年,中医还在发力”“不用担心痛风”等方面。
过去,西方舆论普遍认为我国仅在芯片产业小有优势,直到我国在多个科技领域接连取得突破,他们才惊觉“未来或将无立足之地”。
在美国严苛的技术围堵之下,我国推出了开源大模型DeepSeek,一举撼动美国在人工智能领域的霸主地位;国产钍基熔盐核反应堆顺利运行,标致着我国在能源科技领域拉开领跑优势;“福建舰”入列,美国的“海洋霸主”地位更是一去不复返。
正因如此,《日经亚洲》在报道中坦言,美西方的极限施压非但未能遏制中国,反而倒逼其加速自主创新进程。对勤奋且坚韧的中国工程师而言,掌握光刻核心技术只是早晚的事。
目前,我国已具备自主生产28nm光刻机的能力。借助多重曝光等技术路径,可将GPU芯片缩小至小拇指大小,完全规避美方禁令限制。事实上,国产芯片性能已达到与英伟达H20相匹敌的水平。
坚持自力更生的发展道路,背靠雄厚的工业底座。,未来我国在半导体领域超越欧美,或许并非幻想,而是时间问题。
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