K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

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　　9 月 2 日，工信部颁布了《首台重大技术装备推广应用指导目录》，于其中“电子专用装备”类目涵盖氟化氪光刻机、氟化氩光刻机这两类产品。

　　湖北日报讯 （记者张真真、通讯员康鹏、王冰倩）10月15日，中国光谷诞生重大科技成果：武汉太紫微光电科技有限公司在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方，我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司新型光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证，即将量产。

　　半导体产业是一个极其复杂且庞大的产业链，光刻机很重要，单晶硅也很重要，光刻胶同样很重要。日本的光刻胶技术很强，我国多年来也一直很依赖日本的光刻胶进口，但由于日本是美国的铁杆小弟，所以我国光刻胶正面临卡脖子的风险。

　　工业和信息化部印发《首台重大技术装备推广应用指导目录》，其中特别强调了“集成电路生产装备”部分，明确列入了氟化氪光刻机与氟化氩光刻机两款关键设备，其中氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片的量产。

　　武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。

　　通线活动现场。今天，位于宁波前湾新区的宁波冠石半导体光掩模版制造项目通线量产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。