咨询电话: 13704000378
半导体光刻工艺技术基础ppt!
发布于 2025-07-08 21:41 阅读()
常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料,叫做半导体(semiconductor).
半导体五大特性∶电阻率特性,导电特性,光电特性,负的电阻率温度特性,整流特性。
半导体的应用,按照其制造技术可以分为:集成电路(IC)器件,分立器件、光电半导体、逻辑IC、模拟IC、储存器等大类
1833年,英国巴拉迪最先发现硫化银K8凯发官网平台入口的电阻随着温度的上升而降低(负电阻率温度特性)。这是半导体现象K8凯发官网平台入口的首次发现。
1839年,法国的贝克莱尔发现半导体和电解质接触形成的结,在光照下会产生一个电压--光生伏特效应,这是被发现的半导体的第二个特征。
1874年,德国的布劳恩观察到某些硫化物的电导与所加电场的方向有关,即它的导电有方向性,这就是半导体的整流效应,也是半导体所特有的第三种特性。
1873年,英国的史密斯发现硒晶体材料在光照下电导增加的光电导效应,这是半导体又一个特有的性质。
在wafer(晶圆)预检侧完毕被送到FAB的工艺线上后,先后在wafer表面生长出一层致密的SiO2膜和另外一层Si3N4膜,分别称为PAD Oxide和Nitride。
新闻资讯
-
合肥集成电路产业链再补一大环节 07-29
-
机构:关注国产半导体设备的导入 07-29
-
中国电子信息材料行业产销需求与 07-29
-
广东博众:光刻机国产化破局 “ 07-29
-
四元数半导体申请光刻机对位方法 07-28
-
碲基光刻胶破垄断清华光刻胶改写 07-28
-
2025武汉芯片及半导体产业展 07-28
-
清华大学突破EUV光刻胶技术瓶 07-27