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换道突围!复旦团队牵头 2030年前建成1纳米芯片国产化生产线!

发布于 2026-02-13 06:14 阅读(

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换道突围!复旦团队牵头 2030年前建成1纳米芯片国产化生产线

  2026年初春,上海浦东川沙的1000平方米生产基地内,一场关乎中国半导体产业未来的技术革命正式启幕。由上海市科委、复旦大学与原集微联合打造的二维半导体先进芯片示范生产基地宣告落成,标志着我国在1纳米芯片领域的产业化之路迈出关键一步——依托自主突破的二维芯片制备技术,团队明确提出2030年前实现全产业链国产化的战略目标,为破解卡脖子困境开辟了全新赛道。

  作为项目核心技术支撑,复旦大学集成芯片与系统全国重点实验室周鹏、包文中团队深耕十余年,已实现二维芯片制备的关键性突破。团队研发的全球首款32位RISC-V架构二维半导体微处理器无极,成功集成5900个晶体管,创下国际二维逻辑芯片最大规模验证纪录,相关成果荣登《自然》主刊 。

  此次落地的二维SUV光刻机技术,更是跳出传统硅基芯片的物理局限,以二硫化钼(MoS₂)等二维材料为核心,凭借原子层自组装工艺形成仅1-3个原子厚度的功能薄膜,从底层重构芯片制造逻辑。

  芯片具备单级高增益、关态超低漏电的优异特性,反相器良率高达99.77%,天然解决了硅基芯片逼近物理极限时的发热、漏电难题 ;同时70%工艺可复用现有硅基产线;原子级界面精准调控+全流程AI算法优化双引擎技术,大幅降低了先进制程的研发与量产成本 。在应用场景上,该技术可广泛适配物联网、边缘算力、AI推理等前沿领域,展现出远超传统硅基芯片的拓展潜力。

  按照清晰的产业化路线图,示范基地将分阶段推进技术落地:2026年完成设备联动调试,实现90nm级芯片小批量生产;2027年突破28nm工艺,接轨主流商用水平;2028年冲刺3-5nm关键节点;最终在2030年全面打通材料、设备、工艺全链条,实现1纳米芯片的100%国产化自主可控 。这一规划并非空谈——基地已构建包含20余项核心工艺专利的自主技术体系,30%关键技术实现专利覆盖,浦东创投、复旦科创基金等资本的注入更形成科研+产业+资本的协同闭环 。

  从实验室的原子级探索到产业化的工程化突破,复旦团队牵头的这场芯片革命,不仅是技术路线;,更是中国半导体产业自主创新的坚定实践。随着上海将二维半导体纳入未来产业重点培育方向,校企联动的创新模式持续发力,2030年的1纳米全国产化目标正在从蓝图变为现实,为全球半导体产业格局重塑注入中国力量。