K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　ASML，这家荷兰公司几乎垄断了全球最先进的极紫外光刻机市场，其产品去年占据全球芯片制造设备支出近25%，堪称半导体产业皇冠上的明珠。而中国，正试图挑战这一霸权。美西方对华的技术封锁，本意是扼杀中国的芯片产业，却意外地加速了中国的自主创新进程。但这并不意味着中国能轻易复制ASML的成功。

　　光刻机，究竟有多难造？ 这就好比在指甲盖大小的空间内建造一座城市，光刻机则是绘制这座城市蓝图的精密“画笔”。这支“画笔”需要达到纳米级别的精度，并完美协调光学、机械、电子、化学等多个学科的精密配合。德国夫琅和费研究所专家安德烈亚斯·埃尔德曼指出，制造光刻机需要顶尖的光学系统，以及机械、电子、化学、数学和计算能力的完美整合。 正因如此，全球能够生产先进光刻机的公司寥寥无几，仅有荷兰的ASML、日本的佳能和尼康三家，而ASML在极紫外光刻机领域更是独占鳌头。

　　目前，中国在先进光刻机领域存在明显空白。 供应链高管坦言，国产光刻工具尚属空白，大部分生产线仍依赖ASML或尼康的设备，即使是老旧型号。台积电前研发负责人蒋尚义更直言，光刻技术是芯片制造中最复杂、资源最密集的一环。

　　面对技术壁垒，中国采取了双重策略：短期内“囤积”先进设备，长期内大力投入自主研发。2024年，中国从ASML采购了价值89.2亿欧元的设备，占ASML当年系统销售额的41%，成为其最大的单一市场。此举被解读为应对未来更严厉出口限制的策略，为自主研发争取宝贵时间。美国银行半导体分析师Charles Shi指出，中国正积极开发自主光刻技术，而巨额的ASML设备储备为其争取了时间。 与此同时，2024年5月启动的国家集成电路产业投资基金三期，投入3440亿元人民币，预计撬动1.38万亿元民间投资，重点布局光刻机供应链，包括光刻胶、激光器、反射镜、透镜等关键部件，可谓全链条布局。各地政府也纷纷出台支持政策，形成举国体制的攻关模式。

　　然而，宣称中国在半导体设备领域一片空白并不客观。 《日经亚洲》调查显示，中芯国际、长鑫存储、长江存储等中国芯片巨头已在蚀刻、测量、沉积、化学抛光等工艺环节大规模采用国产设备，摆脱了对进口的完全依赖。这些突破虽然不如光刻机瞩目，却为攻克光刻技术奠定了基础。

　　中国在光刻机自主研发方面也并非一无所获。上海微电子装备公司深耕该领域二十余年，已开发出多种光刻工具。华为在上海设立大型研发中心，招揽来自台积电、ASK8凯发官方网站ML、应用材料等全球巨头的人才。上海宇量昇科技、新凯来等初创公司也积极投身极紫外光刻机研发。 美国的出口管制反而促进了国产设备的市场需求，几乎所有中国顶级芯片制造商都开始优先采用国产设备。美国银行研究主管迪迪埃·塞玛玛对此表示乐观，他认为，虽然光刻技术门槛很高，但深紫外和极紫外技术已存在多年，并非无法逾越。中国已在周边领域取得进展，积累了经验和信心，最终有望实现突破。

　　这场技术博弈中，各方的反应各异。日本设备供应商担忧中国突破后将面临巨大压力，重塑全球半导体设备市场格局。美国内部则存在不同声音，前特朗普政府半导体专家梅根·哈里斯批评美国决策者对中国芯片制造能力的低估，并警告出口限制可能适得其反，反而提升中国在国际市场的竞争力。ASML CEO克里斯托夫·富凯也表达了对美国政策的担忧，认为出口限制将损害ASML的主导地位并促进中国自立自强。

　　中国外交部则坚持全球化合作，强调半导体产业的全球化属性以及中荷两国在该领域的互补性，呼吁开放合作，维护全球半导体产供链稳定。

　　中国能否造出自己的ASML？ 这不仅是技术难题，更是对全球科技合作模式的考验，是合作共赢，还是继续封锁与反封锁的对抗？ 答案，仍有待时间来检验。