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国产替代加速:半导体设备投资黄金窗口开启!
发布于 2025-08-25 16:30 阅读()
在全球半导体产业链重构与国产替代加速的背景下,半导体设备作为产业基石,正迎来历史性发展机遇。2024年全球半导体设备市场规模达1171亿美元,中国以496亿美元需求规模蝉联全球第一,且增速显著高于全球平均水平。随着AI算力芯片、汽车电子、先进封装等新兴需求爆发,叠加美国技术封锁倒逼国产化进程提速,半导体设备行业呈现“需求扩张+国产替代”双轮驱动逻辑。机构预测,2025年中国半导体设备市场规模将突破2000亿元,国产化率有望从当前的21.58%提升至30%以上,核心设备厂商将率先受益。
刻蚀设备占晶圆制造设备市场约20%份额,技术门槛极高。中微公司(688012)作为国内龙头,5nm以下刻蚀技术已通过台积电验证,2025年上半年刻蚀设备收入同比增长40%,LPCVD设备收入增长超600%。北方华创(002371)则实现28nm及以上成熟制程刻蚀设备全覆盖,14nm设备进入验证阶段,平台化布局优势显著。屹唐半导体(未上市)凭借干法刻蚀技术突破,逐步导入国内产线. 光刻设备:国产化攻坚关键领域
光刻机国产化率不足1%,但细分领域已现突破。上海微电子(未上市)承担光刻机整机研发,28nm工艺设备进入产线验证;科益虹源(未上市)提供DUV光源系统,福晶科技(002222)为光源核心部件供应商。涂胶显影设备环节,芯源微(688037)28nm前道设备通过验证,市占率提升至4%,打破东京电子垄断。
PECVD和ALD设备国产化率不足10%。拓荆科技(688072)PECVD设备市占率国内第一,2025年订单同比增长超50%;北方华创PVD设备全球市占率85%,中微公司MOCVD设备在Mini LED领域市占率超60%。微导纳米(688147)ALD设备进入光伏与半导体双赛道,技术指标达国际主流水平。
清洗步骤占芯片制造工序30%以上,单片清洗设备成主流。盛美上海(688082)SAPS/TEBO兆声波技术全球领先,全球市占率6.6%,2025年上半年营收增长35.8%;北方华创槽式清洗设备批量交付,至纯科技(603690)28nm湿法设备实现国产替代。
华海清科(688120)国内唯一12英寸CMP设备厂商,2025年新签订单同比翻倍,减薄机、离子注入机新品放量。其设备已覆盖中芯国际、长江存储等头部晶圆厂,技术指标比肩应用材料。
凯世通(万业企业子公司)12英寸低能大束流设备量产,中科信(未上市)28nm工艺全覆盖,北方华创进军高能离子注入领域。国产化率从2020年不足5%提升至2025年约15%。
中科飞测(688012)前道检测设备市占率突破5%,精测电子(300567)膜厚、电子束检测设备进入中芯国际供应链。全球市场由KLA垄断,国产替代空间超百亿元。
盛美上海电镀设备突破CoWoS工艺,华海清科减薄机适配3D堆叠,拓荆科技混合键合设备实现量产。长电科技(600584)2.5D/3D封装设备产能利用率达95%,通富微电(002156)Chiplet技术量产。
南大光电(300346)ArF光刻胶通过中芯国际验证,国产化率从2020年不足10%升至34%;凯美特气(002549)电子特气纯度达99.99999%,供应台积电、中芯国际。
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