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14nm级纳米压印光刻模板2027年量产大日本印刷株式会社（DNP）今日宣布，成功研发出一款电路线nm的纳米压印光刻（NIL）模板。该新型模板可实现相当于1.4纳米制程的逻辑半导体图形化，...
2025-12-09 阅读（812） 标签：半导体光刻技术 -
一个IC独角兽的诞生：佛山半导体“反向”价值重估自主研发的超快激光微纳加工设备，以其媲美进口设备的性能却近乎腰斩的成本，打破了海外巨头垄...
2025-12-09 阅读（734） 标签：半导体光刻技术 -
荷兰宣布光刻机新规！引全球芯片业“震动”中国芯片迎来新机遇10月31日，路透社报道指出，荷兰针对光刻机的技术封锁再度收紧。根据其2025年生效的新规，ASML向中国出口关键DUV设备已被明确禁止，管制范围也...
2025-12-09 阅读（712） 标签：半导体光刻技术 -
从实验室到千亿市值龙头：光启技术凭借AI设计+微纳光刻制造如何撬动军工、新能源、半导体万亿市场？继又一重大订单的顺利落地，光启技术年度订单总额接近35亿元，再度刷新历史。这一里程碑式的...
2025-12-09 阅读（656） 标签：半导体光刻技术 -
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彤程新材获得发明专利授权：“一种光刻胶及其应用” TOP1 -
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