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鼎泉科技取得半导体光刻光罩盒专利能够迅速对掩膜板进行夹持定位国家知识产权局信息显示，东莞鼎泉科技有限公司取得一项名为“一种半导体光刻光罩盒”的专利，...
2026-03-05 阅读（525） 标签：半导体光刻技术 -
荷兰半导体专家惊叹：中国企业用“非对称创新”撕开ASML的40年技术铁幕当ASML的EUV光刻机仍在全球芯片工厂充当入场券时，上海微电子交付的28nm浸没式DUV设备已实现99.5%的良率，核心部件国产化率突破98%。更...
2026-03-04 阅读（988） 标签：半导体光刻技术 -
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科技新突破丨新光刻技术面世 超越半导体制造业标准界限日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种新型极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标...
2026-03-03 阅读（988） 标签：半导体光刻技术 -
半导体设备阿斯麦光刻机光源技术突破支持更先进制程芯片制造良率提升随着科技的飞速发展，半导体行业迎来了前所未有的变革。作为半导体制造中的核心设备，光刻机在...
2026-03-03 阅读（959） 标签：半导体光刻技术
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芯片之光：光刻技术引领智能时代 TOP1 -
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