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荷兰半导体专家:ASML花费40年钻研光刻机中国企业竟比ASML还狠
上世纪六十年代,美国半导体产业刚起步,那时候芯片还挺简单,晶体管数量不多,对光刻机的要求...
2026-03-01 阅读(547) 标签:半导体光刻技术 -
阿斯麦新一代EUV光刻机量产在即摩尔定律迎来救世主?
当台积电宣布3nm工艺良率突破80%时,业内都在追问同一个问题:芯片制程的极限究竟在哪里...
2026-02-28 阅读(820) 标签:半导体光刻技术 -
让中国的光刻机变废铁日本对华下狠手外媒:比美国人还绝
凯发k8天生赢家 2023年,半导体行业波涛汹涌,风云变幻。就在这个时刻,日本突然出手,采...
2026-02-28 阅读(570) 标签:半导体光刻技术 -
泓光半导体申请KrF光刻胶组合物专利能有效抑制界面缺陷
国家知识产权局信息显示,福建泓光半导体材料有限公司申请一项名为“一种KrF光刻胶组合物和...
2026-02-27 阅读(569) 标签:半导体光刻技术
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光刻技术的原理和方法 04-21
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半导体光刻与刻蚀工艺 04-20
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国内最大高端半导体DUV光刻胶核心主材基地投产! 04-20

