K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　中商情报网讯：在数字化、智能化变革的浪潮下，光刻机作为半导体产业的战略制高点，其重要性日益凸显。下游应用如新能源汽车、AI的指数级增长，不仅拉升了芯片需求，更倒逼光刻技术迭代，共同铸就了其市场的长期繁荣。

　　光刻机产业链上游为材料、设备及组件，材料包括光刻胶、电子特气、CMP抛光液、掩膜版等，设备及组件包括涂胶显影设备、激光器、双工件台、光学系统、整机控制系统、整机软件系统等；中游为光刻机，可分为有掩膜光刻机、无掩膜光刻机；下游应用于集成电路制造、先进封装、平板显示、功率器件制造、LED、MEMS制造等领域。

　　光刻胶应用于晶圆制造工艺的光刻环节，作为核心材料决定了工艺图形的精密程度和产品良率，多年来一直保持稳定持续增长。中商产业研究院发布的《2025-2030全球及中国光刻胶和光刻胶辅助材料行业发展现状调研及投资前景分析报告》显示，2024年我国光刻胶市场规模约为80.5亿元，同比增长25.39%，中商产业研究院分析师预测，2025年我国光刻胶市场规模可达97.8亿元。

　　光刻胶行业呈现政策驱动、技术分层突破、产业链协同深化三大特征。ArF/KrF等高端光刻胶国产化率突破30%，配套材料（显影液、电子特气）实现全链条自主可控。设备端高精度定位、光学元件技术填补空白，封装与先进制程需求催生PSPI、纳米分散体等创新材料。未来竞争将聚焦EUV胶研发、车规级认证壁垒及设备-材料一体化生态构建，技术迭代速度与客户黏性成为企业护城河。

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