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外媒:中国买了超多ASML光刻机10年不用愁制造3nm芯片都行!
发布于 2025-11-24 08:03 阅读()
美国最担心中国能够制造出先进芯片来,所以限制ASML,不准将EUV光刻机卖给中国。后来更是限制部分先进的浸润式DUV光刻机,也不准卖给中国。
不仅如此,后来还要求日本、美国本土的、荷兰的其它半导体设备厂商,也限制一些先进的半导体设备,要全方面的进行围堵。
不过,近日,有国外媒体称,事实上在限制中国购买ASML的光刻机之前,中国已经买了超多的ASML光刻机,这些光刻机,支撑中国接下来10年的芯片制造需求都不是问题。
外媒甚至称,中国已经购买的光刻机,不仅能制造7nm芯片,即将制造5nm芯片,甚至未来制造3nm芯片都是有可能的。
外媒这么说的理由就是,虽然中国至始至终确实没有买EUV光刻机,但买到了ASML最新的浸润式DUV光刻机,之前并不受限的。
所以在最近几年,中国一直在向ASML大量的购买光刻机,特别是在2023年,2024年,中国大量购买浸润式DUV光刻机,仅2023年这一年,从ASML就进口了600多亿元,可以说是囤积了很多了,中国一直是ASML最大的收入来源地。
从技术上来看,浸润式DUV光刻机,制造7nm芯片肯定是没有问题的,这已经是被验证过了,台积电第一代7nm也是浸润式DUV光刻机制造的,第二代才转向EUV。
浸润式DUV光刻机,制造5nm芯片,问题也不大,浸润式光刻机之父林本坚甚至称,用来制造3nm芯片也是可以的,只是需要多次曝光,让制造效率降低,同时多次曝光后,多次曝光之间的对准肯定就会没那么准了,所以良率会降低,会导致成本上升。
但是,如果你没有EUV,又想制造5nm、3nm芯片怎么办,那当然就不会去过多的考虑成本,先将芯片制造出来再说。
所以很明显,外媒分析的还线年使用的光刻机,其实不用太愁了,特别是浸润式DUV光刻机,本来一台的产能就非常高了,连续买了这么多年,买了这么多,肯定是没有什么问题的,我们已经提前为未来储备做了准备。
至于5-10年后,如今科技这么发达,也放根本就不需要5年,我们自己研发的浸润式光刻机,甚至EUV都出来了,那还担心什么呢,所以现在时间站在我们这边,不是在美国那边了。返回搜狐,查看更多凯发k8天生赢家凯发k8天生赢家
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