K8（凯发中国）凯发-天生赢家·一触即发

　　搞科创板要知道的~~~当前中国自主生产的光刻机，在不同技术路线和应用场景下已实现多档位纳米级突破，主流及前沿成果如下： 1.前道光刻机：上海微电子的SSA800是已交付的28nm浸没式DUV光刻机，2025年已在中芯国际工厂完成测试且图案输出稳定，可覆盖28nm、40nm等工艺。此前其推出的干式氟化氩光刻机，还能实现65nm制程。2.纳米压印光刻机：2025年8月杭州璞璘科技交付的PL - SR系列纳米压印光刻机，线纳米，相关技术指标已超越日本佳能部分旗舰产品。3.电子束光刻机：2025年8月面世的“羲之”电子束光刻机，精度达0.6纳米、线纳米，不过它更适用于量子芯片等小批量定制场景，暂不适合大规模量产。4.后道光刻机：2025年11月上海芯上微装交付的AST6200步进光刻机，分辨率为350nm，专为功率、射频等先进制造场景定制，可满足主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。

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