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与光刻机齐名!难怪我国强硬反制荷兰原来已研制出首台核心设备!

发布于 2026-01-25 12:10 阅读(

  

与光刻机齐名!难怪我国强硬反制荷兰原来已研制出首台核心设备

  怪不得我们在反制荷兰时,能够展现出如此强硬的姿态,甚至毫不妥协。原来,我国已经悄然掌握了与光刻机并列的核心设备——这一设备,之前我们完全依赖从美国、日本等国进口。去年,荷兰在采取了非法手段强行掠夺我方企业之后,面对这场对峙,我国展现出了惊人的战略底气。我们不仅明确向荷兰提出了原则性要求,而且在此基础上毫不退让,最终让荷兰想要通过威胁我国芯片制造的企图彻底破灭。荷兰人曾经认为,如果没有西方技术的支持,k8凯发集团中国必然会在芯片制造方面向他们求助,可他们万万没料到,我们根本没有按他们的预期行事。

  当荷兰方面采取抢夺手段时,我国丝毫没有妥协,最终他们所得到的,只有一座空荡荡的大楼。尽管如此,k8凯发集团在芯片制造领域,我国仍然在某些核心技术和设备方面,依赖于包括荷兰在内的美西方国家技术。这也正是荷兰敢于如此直接采取强抢手段的原因之一。那么,在这次强硬反制荷兰的背后,我国的底气究竟来自哪里呢?从近期我国媒体发布的一则消息中,我们似乎找到了部分答案。

  根据《人民日报》近日报道的消息,18号当天,中国核工业集团公司和中国原子能科学研究院成功研制出我国首台串列型高能氢离子注入机,这标志着我国在这一领域取得了突破性进展。更为重要的是,这台设备的核心指标已经达到了国际先进水平,意味着我国不仅已经掌握了串列型高能氢离子注入技术的全链条研发能力,也攻克了功率半导体制造中的关键技术环节。这一突破,为推动高端制造装备的自主可控、保障产业链安全,奠定了坚实的技术基础。

  大家可能并不太了解,离子注入机、光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备并列为芯片制造行业的四大核心装备,是半导体制造的刚需设备。在此之前,我国并没有自主的技术和设备,这也导致我们长期依赖进口,尤其是从美国和日本等国家进口这一核心设备。而这次成功研制,意味着我国在芯片制造的关键技术领域,成功告别了卡脖子的困境。

  高能氢离子注入机的核心作用,是将氢离子加速至兆电子伏特级别,并精准地注入半导体材料的深层,从而改变其电学特性,实现精密掺杂。这种设备主要应用于功率半导体的制造,如新能源汽车的IGBT、SIC、GaN等第三代半导体器件,以及智能电网的高压开关等领域。通过这种技术,不仅能提高芯片的有效击穿电压、降低能耗和漏电流,还对我国的双碳目标有着积极意义。此外,设备还可以用于SOI晶体的制备,支持智能剥离技术的实现,制造高性能的CPU和射频芯片所需的SOI衬底,从而有效降低寄生电容、提升运行速度并降低功耗。更重要的是,这项技术对于先进存储与特色工艺的研究同样具有重大帮助。

  第三,技术突破对我国战略产业的发展起到了积极促进作用。光伏、储能、智能电网和新能源汽车等战略产业将因此受益。这不仅能够加速我国相关领域的内生发展,更为这些产业进军国际市场提供了有力的技术支持与竞争优势。 最后,这一技术突破提升了我国在国际市场上的竞争力。在设备和技术突破之后,相关行业的上游零部件,如牵引高压电源、真空系统、磁分析器等将实现更大程度的国产化。这不仅降低了生产成本,也大幅增强了我国在国际市场上的竞争力。通过完善半导体装备的自主生态系统,我国能够在全球芯片制造领域占据一席之地。 从这些分析来看,我国在高能氢离子注入机领域的技术突破,具有重要的战略意义。正是因为掌握了这一核心技术,我国在面对荷兰的强盗行径时,才能毫不退让、坚决反制,守住自己的底线,展示出强大的战略底气。这一突破标志着我国在关键技术领域的崛起,进一步加固了我们在全球芯片制造产业中的地位,也为未来在国际博弈中立于不败之地打下了坚实的基础。返回搜狐,查看更多