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　　光刻机，对于中国半导体产业而言，绝对是所有半导体设备中，最重要的设备，没有之一。

　　一是因为光刻机技术门槛高，目前国内自己的水平，离国际水平，相差线年以上的差距，落后太远了。

　　二是因为美国的制裁，让全球最先进的光刻机，根本无法卖给中国，比如EUV光刻机，甚至连先进的浸润式DUV光刻机也不行，ASML之前就说过，卖给中国的光刻机，比起卖给西方的光刻机，一般都是有10年技术差距的。

　　可想而知，光刻机对于中国芯片产业而言，是多么痛的领悟了，自己落后这么多，还被卡脖子。

　　另外，还给大家说两个数据，可以更加直观的知道，目前光刻机对于我们而言，形势是多么的严峻。

　　很多人都知道，目前全球有4大光刻机厂商，分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子，从技术来看，其中ASML最强，尼康第二，而佳能和上海微电子似乎差不多。

　　但是从市场格局来看，却是天差地别的。如上图所示，这是机构展示的当前四大厂商的市场格局，可以看到国产光刻机的份额为0.2%，几乎就是能够忽略的，另外三家垄断了100%的市场。

　　第二个数据，则是目前国内光刻机自的自给率，也就是国产光刻机占比，还不到1%。

　　大家都知道，国产光刻机的市场份额低，但很多人可能没有想到会这么低，事实上，国产光刻机出货量也较多的，但更多的主要集中在后道工序上，也就是封测。

　　封测用的光刻机，国产占比还是不低的，可能超过了30%，但在前道光刻机上，也就是用于芯片制造的光刻机，其比例就低了，还不到1%。

　　国内晶圆厂们使用的光刻机，几乎都是找ASML、尼康、佳能这三家买的，找ASML买的更多的是稍高端的一点的光刻机，金额占到80%左右，找日本买的更多的是低端光刻机，金额占到20%左右。

　　所以说，目前光刻机的形势，确实是相当严峻的，真的是脖子被卡的死死的，所以我们在光刻机这一块，必须得突破才行。

　　上海微电子的公开资料显示，我们达到了ArF的水平，显示的精度是90nm，据一些网友称，可以通过多次曝光，达到28nm，这个我就不知道真假了。

　　但之前曾曝光过一台氟化氩光刻机，分辨率小于65nm，采用193nm波长的光线nm，这个光刻机其实离浸润式只差一步了，但这一步，也没有这么容易跨过。

　　所以接下来，还是继续期待国产光刻机的突破的，只要达到浸润式，情况就会有天差地别的改变了。返回搜狐，查看更多凯发k8凯发k8